半导体膜厚测量仪 精度高 功耗低

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江苏天瑞仪器股份有限公司

分析范围:0--50微米分析精度:0.005微米分析误差:小于5%分析时间:30秒元素范围:从硫到铀探测器分辨率:145evx射线管:50w尺寸:576*495*545mm重量:90kg温度范围:15--30度电源电压:220v孔径大小:0.2mmZ轴范围:0--140mm

镀层测厚仪是将X射线照射在样品上,通过从样品上反射出来的*二次X射线的强度来。测量镀层等金属薄膜的厚度,因为没有接触到样品且照射在样品上的X射线只有45-75W左右,所以不会对样品造成损坏。同时,测量的也可以在10秒到几分钟内完成。
x射线测厚仪是一种,以和工业计算机为核心,采集计算数据并输出目标偏差值给轧机厚度,已达到要求的轧制厚度。我们主要来介绍一下x射线测厚仪的系统构成方法,希望可以帮助用户更好的应用产品。
用户操作终端
用户操作终端包括一个的计算机和高分辨率的彩色。可显示整个系统的检测、设定、偏差值;用户通过软件显示页面可直接控制和操作测厚仪。主操作页显示正常操作所需的各种数据。维护页面显示系统正常工作时各种参数高压反馈、管电流、灯丝电流、射线源温度等。一些与用户质量有关的重要数据如厚差曲线、厚度与长度关系曲线均可打印。技术员能很容易地通过操作终端的报表打印功能,打印出来以显示可用信息。
半导体膜厚测量仪
X射线发射源及接收检测头
X射线管装在一个抽真空后注满油的全密封的油箱中保证绝缘和良好冷却,高压等级根据有所区别,加上具有的温度自动保护与报警功能,提高了X射线管的稳定性和使用寿命。模块化设计、免维护设计方案及规范的制造保证了设备系统高可靠性。
检测头采用电离室和电子前置放大器组成高性能电离室检测头,离子室设计具有大空间,高抗干扰性、高灵敏度等特点。系统备有风冷、油冷恒温冷却单元,系统的使用寿命。
半导体膜厚测量仪
镀层测厚仪采用了电涡流原理以及霍尔效应测量的原理。主要用于测量金属以及非金属等基体上的油漆层、电镀层等非磁性材料的厚度。可以快速无损的测量出涂镀层的厚度。
广泛应用在电镀、喷涂、管道防腐、铝型材、钢结构、印刷线路版、及丝网印刷等行业中。特别适合用于生产现场的质量管控。
半导体膜厚测量仪
X荧光测厚仪采用X荧光分析技术,可以测定各种金属镀层的厚度,包括单层、双层、多层及合金镀层等,它也可以进行电镀液的成分浓度测定。它能检测出常见金属镀层厚度,*样品预处理;分析时间短,仅为数十秒;即可分析出各金属镀层的厚度,分析测量动态范围宽,可从0.01M到60M。它是一种能谱分析方法,属于物理分析方法。当镀层样品在受到X射线照射时,其中所含镀层或基底材料元素的原子受到激发后会发射出各自的特征X射线,探测器探测到这些特征X射线后,将其光信号转变为模拟电信号;经过模拟数字变换器将模拟电信号转换为数字信号并送入计算机进行处理;计算机的应用软件根据获取的谱峰信息,通过数据处理测定出被测镀层样品中所含元素的种类及各元素的镀层厚度。
我们公司充分利用多年积累的技术知识,坚持以客户为导向,不断的创新,为客户日益复杂化和多样化的社会课题以及需求提供完全集成的分析解决方案。


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