矿石成分分析仪

x射线荧光光谱仪产品详细资料介绍 ，XRF光谱分析仪技术参数和性能配置由苏州实谱信息科技有限公司提供x荧光分析仪产品报价和资料。EDX8000H采用抽真空测试技术，能够很好的对轻元素进行分析和测试。 测量元素范围：从钠（Na）到铀（U）。
目前有很多方法可以实现X射线荧光光谱分析，因此，为了避免混淆，我们以能量色散X射线荧光光谱分析技术（EDXRF）为例，专注于XRF的细节部分。X射线荧光光谱仪主要包括组成一条信号链的子系统：1、X射线管；2、X射线探测器；3、多通道分析器；4、计算机。如上所述，X射线管也即是产生用于激发检测样品的X射线的地方。X射线管具有两种不同类型的X射线源：放射型和高压型。放射型X射线源通常较为简便、体积较小，成本较低；但是，这种放射源不能被关闭，并且会对环境、使用者等造成一定的危害，因此，对于这种类型的X射线源的使用需要进行注册登记，同时对其运输和处理都具有一定的限制，此外，人们还需要对这种放射源进行定期测试。另一方面，因为高压X射线源不含有污染，并且能够被“关闭”，因此对于这类X射线源的使用则没有那么多的限制。但是，高压X射线源需要用到高压电源以产生并释放出所需的X射线。

X 射线管是工作在高电压下的真空二管，其包含有两个电：一个是用于发射电子的灯丝，作为阴；另一个是用于接受电子轰击的靶材，作为阳。两级均被密封在高真空的玻璃或陶瓷外壳内。施加到该灯丝上的电流使其加热至1000摄氏度，因此它能发射出电子。一旦灯丝发射出电子，在灯丝和阳之间施加高电压以加速电子在灯丝与阳之间的移动。加速电子与阳之间的相互作用即可以引起X射线的产生。阳材料中的元素类型决定了发射出来X射线的能量大小。X射线探测器X射线探测器主要是用于测量目标样品发出的X射线荧光，目前市场上已经有多种不同类型的X射线荧光分析探测器可用。能量色散X射线荧光光谱分析技术通常使用的为固态探测器，例如SI-PIN探测器或者硅漂移探测器（SSD）等。每种类型的探测器在不同的应用方面都具有不同的优劣势，因此并不存在好与差之分，只需根据具体需求进行选择即可。分辨率和灵敏度是X射线探测器两个重要的性能参数。一般情况下，分辨率越高意味着探测器可以检测更多能量水平之间的差异；灵敏度越高意味着探测器能够检测到更多的**。计算机处理计算机主要起到管理用户界面和通讯的作用，此外还具有存储、检索和显示数据等功能。X射线荧光光谱仪能够发展为移动的手持式设备，在某种程度是因为计算机功能能够驻留在较小的嵌入式应用处理器上，处理器变小使得整体体积也因此变小。由摩擦效应产生X射线的新型XRF技术摩擦发光是一种通过机械作用（如拉动、撕裂、刮擦、压碎或者不同材料间的摩擦等）而产生光的现象。例如，当敲碎蔗糖晶体时或者剥离胶带时就能观察到这种现象；这种现象从很久之前的古文明时期就被人们所发现。20世纪80年代，人们发现在X射线能量范围内，真空管内的机械作用能够产生光；2008年，一批来自美国加州大学洛杉矶分校的物理学家受到美国*部研究计划局资助，对这一发现进行了进一步的扩大和研究，并了他们能够以一种有效且可重复的方式通过摩擦发光现象产生X射线。研究结果表明，利用摩擦发光产生X射线对于降低X射线产生的复杂性和成本具有非常深远的影响。人们能够通过机械性的将材料挤压到一起再将其拆分以达到摩擦起电效应，进而在目标阳释放掉足够多的电子以产生必要数量的X射线进行X射线荧光分析操作。简言之就是利用一套机械性体系取代高压电源来产生X射线。这项创新能够降低整个X射线荧光光谱仪的成本达50%左右，并且有助于提升手持式X射线荧光光谱仪的使用范围。

技术指标高灵敏度探测器（分辨率达149Ev），精密的放大电路，
   提高Cd、Pb元素的灵度。
   检出下限(Cd/Pd)：Cd/Cr/Hg/Br≦2ppm,Pb≦5ppm
   样品形状：任意大小，任意不规则形状
   样品类型：塑胶/金属/薄膜/粉末/液体
   小样品腔尺寸：300×300×100mm
   大样品腔尺寸：样品尺寸不受限制
   X射线管：靶材/Mo管电压/5～50kV管电流/1～1000μA
   照射直径：2、5、8mm
   探测器：Si(PIN)半导体高灵敏度探测器
   滤光片：八种新型滤光片自动选择
   样品定位：微动载物平台（选配）
   样品观察：130万分辨率彩色CCD摄像机
   微区分析：X光聚焦微区分析系统（选配）软件
   定量分析：理论Alpha

X荧光光谱技术的发展
1959年我国从苏联引入了照相式X荧光光谱仪，这是中国次引进X荧光光谱分析仪。 1895年，德国物理学家伦琴发现了X射线。 1896年，法国物理学家乔治发现了X射线荧光。 1948年，弗里德曼和伯克斯研制了台商品性的波长色散X射线荧光光谱仪。
1969年，美国海军实验室研制真正意义上的EDXRF光谱仪。从上面的X荧光光谱仪的初始发展过程来看，荧光光谱分析仪这项技术比较年轻，从发现X射线荧光到出现X射线荧光光谱分析仪都不过一**，后应用到各种领域中的时间也才几十年。同样，我国X荧光光谱分析也是光谱分析领域中较年轻的分析手段之一，1959年，我国请苏联来华在应化所举办了x光谱学习班，随后，我国不断开展X荧光光谱学习班，为之后中国X荧光光谱分析技术打好了基础。
1981年，我国X光谱分析工作者出版了自己编著的书籍，由此可见，在这些年中，我国研究X荧光光谱的学者们做了不少的工作。
从上，我们知道了很多厂家都喜欢购买进口光谱仪，还了解我国引进台X荧光光谱仪后的发展，明明前后研制的时间差不多，几年的差距为什么技术差别那么大，我们是否真正克服了这项技术。1959年，我国研制了台X荧光光谱分析仪，但是这是大型的X荧光光谱分析仪（我们现在购买的X荧光仪器都是手持式的，方便易携带）。当年有单位购买了国产的大型X荧光光谱仪后，不仅所发挥的作用不大，还经常发生故障，不能充分发挥作用，因此，我国X荧光光谱分析发展受到了影响，大部分工作还是用进口仪器完成。 在X荧光光谱仪的研制与投产上学者与研制者们集聚力量，对X荧光光谱技术进行分析，之后的成果斐然。北京师范大学在X荧光光谱分析在表面微区，微试样的分析中做出了开创性的工作。王燕，赵敏等学者对X荧光强度与含量的线性关系进行了分析，并对定量分析方法进行了模拟运算，总结了优的计算方法。周云泷等学者通过计算机软件分析计算，对一些微量元素进行分析，达到较为满意的分析结果。之后的一些研究因篇幅原因不再一一概述，但之后越来越多的学者们都为X荧光光谱分析付出了努力。
应用领域：
1.ROHS\无卤检测指令
2.合金分析领域 （特别是轻元素）
   锌铝合金成分分析
   铝合金成分分析
   铜合号判定、成分分析
   不锈钢成分分析（抽真空轻元素检测）
   铸铁成份分析  等
3 .镀层成分分析
    镀层厚度分析
    镀层环保检
4.包装指令检测标准（94/62/EC)
  CD+PB+Hg+ Cr6 ＜100
5.玩具指令检测标准
6.矿石成份品目分析