派瑞林镀膜技术广泛用于航空航天,电路板、磁性材料、传感器、硅橡胶、密封件、器械、珍贵文物、小家电、数码、卫浴、蓄电池、汽车等领域,能在金、银、钨、钯等不同金属表面形成2-10nm厚度左右的镀层,从而使金属表面具有良好的耐磨性,防水、导电性能、耐腐蚀、耐高温、防氧化及改变表面张力等特性,从而提高材料性能,可以全面的改善产品品质。
派瑞林镀膜被许多人认为是保护电子,仪器仪表,航空航天,医疗和工程行业中的器件,元件和表面的较好保形涂层。聚对二甲苯在室温下直接在表面上形成是的。它具有化学稳定性,成为优异的阻隔材料,具有优异的耐热性,以及优异的机械性能和高拉伸强度。没有涉及液相。涂层是真正保形的,具有统一的可控厚度,并且在厚度大于0.5μ时完全无针孔。派瑞林涂层完全穿透狭窄的0.01mm的空间。聚合中不涉及引发剂或催化剂,所以涂层非常纯净并且不含痕量的离子杂质。室温形成意味着涂层有效地无应力。
派瑞林parylene真空气相沉积设备又名派瑞林镀膜机、哌拉伦镀膜机,是用于电路板pcba、线圈马达、硅橡胶制品、磁性材料、led/oled、传感器、微电子产品、电池、产品、书籍画卷等产品镀膜的设备,与传统的三防喷涂设备不同,它采用了一种特的化学气相沉积工艺(cvd),沉积过程过程主要有以下三个步骤:
1. 真空环境,温度130℃条件下,固态派瑞林材料升华成气态。
2. 真空环境,温度680℃条件下,将气态双分子裂解成为活性单体。
3. 真空环境,常温下,气态单体在基体上生长聚合,形成致密的防护膜。
的沉积过程决定了派瑞林parylene膜层厚度可以自由控制、膜层厚度整体比较均匀、膜层比较完整无薄弱点无针孔等特点,所以被涂敷后的产品膜层防护性能明显优于喷漆、环氧、电镀等传统三防工艺,防水、绝缘、耐盐雾、耐腐蚀的防护效果也更好,从而提高产品性能,延长适用寿命。
目前现有的镀膜方式具有以下缺陷:1、气密性不强,影响真空效果,抽真空效果不好,生产效率低,且影响镀膜效果,制得的成品良品率低;2、镀膜效果差,薄膜容易从产品上脱落;3、设备机构负责,不便维修;4、智能适用于一些金属镀膜材料,易生成有害气体。派瑞林镀膜设备以其特的结构设计,避免上述设备上存在的缺陷,以特的CVD镀膜方式在产品表面形成一层致密的保护膜,可有效对产品防护,不受外界恶劣环境的破坏。